致敬攀登者：中微半导体的“勇敢者游戏”

攀登者精神，是永不止步的攀登精神，不断以坚韧、求知、探索的精神追寻极限。有这么一群行业攀登者，他们深入行业纵深，探索需求的极限；深入行业细节，探索场景的极限；深入科技科研，探索创新的极限。

他们是谁？他们是我们要致敬的行业攀登者。

半导体的芯片产业，包括设计、芯片制造、到设备材料，每一步都是非常精密，需要产业积累的。这条攀登者的路，艰难而又孤独。中微半导体就是其中一家。

中微半导体的成立背后，有一则令人津津乐道的小故事。

中芯国际创始人江上舟，在2003年上海世界半导体设备展看到了应用材料公司的等离子刻蚀机产品，感觉非常震撼。

2004年5月31日，中微半导体设备（上海）有限公司成立，尹志尧担任公司董事长兼总裁。

中微半导体认定介质刻蚀设备将是未来的主流，通过全新的工艺和技术，以自主创新的介质刻蚀设备为突破口，抢占被国际巨头垄断的市场份额。

知易行难，中微半导体面临着一没钱、二没人的窘境。作为技术密集型行业，半导体设备业不仅需要极为精专的人才，而当时在国内，无论是高校还是产业界，对于刻蚀机的理解基本属于空白。

截至2018年末，中微半导体已拥有研发和工程技术人员381名，占员工总数的58%，涵盖了物理、化学、数学、工程技术、特种工程技术等相关学科的专业人员。

中微半导体多年来聚焦于集成电路、LED芯片等微观器件领域的等离子体刻蚀设备、深硅刻蚀设备和MOCVD设备等关键设备的研发、生产和销售。如今已研发成功5nm等离子体刻蚀设备应用。

从2004年到2020年，16年的时间历程，中微半导体实现了多次技术突破。

中微半导体设备信息部总经理王兰说，“半导体行业从早期的几十纳米一直发展到现在中微7纳米、5纳米的设备，这在当年来看是很难想到的。当时业界曾经认为，半导体的发展已经快到物理极限了，但是今天极限仍然在被一次次突破，仍在不断的验证着摩尔定律。”

“要成为世界一流的企业，就一定在自己的技术上登峰造极，那么对企业IT来说也是一样，因为IT技术日新月异，每一个IT人都要不断去学习，不断的突破自己，去迈向一个新的高度。”王兰说，“中微半导体今年的年会主题就是勇攀高峰，我们希望通过团队的力量，与上下游大量的合作伙伴共同成长，共攀高峰。比如我们就选择了戴尔这样的合作伙伴，帮助我们实现IT基础架构的升级，戴尔长期稳定的产品质量和服务，可以让我们共同发展，成为攀登高峰的同行者。”

(责编：杜燕飞、孟哲)